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全美第一个2nm级工艺 Intel 18A已过第一道关:除了胜利别无选择

发布日期:2025-10-12 文章浏览: 加入收藏


10月10日消息,Intel昨晚推出了Panther lake及Clearwater Forest两代产品,都使用了18A工艺,这是全美第一个2nm级别的先进工艺。

实际上放在全球来说,台积电的2nm工艺产品还没有产品发布,Intel应该算是全球第一个推出2nm级工艺的半导体大厂,多年来被台积电、三星领先压得喘不过来气的局面总算缓解一点了。

这两款产品不论性能还是能效,表现还是不错的,Intel表示相比Intel 3工艺,18A每瓦性能提升15%,密度提升了30%。

18A工艺至少会用在未来三代产品中,Intel之前的说法是2030年之前都会继续打磨18A工艺,还会有增强版18A工艺。

18A工艺的芯片正式上市还要等明年1月份之后,但是整体下来可以说18A工艺已经过了第一道关——从工厂试产走向规模化量产,这背后是良率的提升,产能的爬坡等一系列问题的解决。

早些时候有传闻称18A的良率只有10%,现在来看这已经不攻而破,通常来说稳定生产需要70%以上的良率才能谈商业价值,否则成本高到无法接受。

不过Intel的18A也不是万事大吉了,代工业务不能只靠Intel自己的产品使用,还要有大客户采用才行,近期AMD、OpenAI及NVIDIA对Intel代工的态度都很谨慎,双方是有接洽,但下单太早了。

韩国Sangmyung大学系统半导体工程教授Lee Jong-hwan表示,不断提升良率是Intel唯一的出路,他们已经别无选择,只能重塑自己,否则生存会很困难。

责任编辑:宪瑞

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